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旋片式真空泵是一種油封式機械真空泵，是真空技術中最基本的真空獲得設備之一。旋片式真空泵可以抽除密封容器中的干燥氣體，若附有氣鎮(zhèn)裝置，還可以抽除一定量的可凝性氣體。但它不適于抽除含氧過高的，對金屬有腐蝕
1、不要再過冷的環(huán)境下使用。2、使用前可以先適當的預熱。3、向軸承體內加入軸承潤滑機油，觀察油位應在油標的中心線處，潤滑油應及時更換或補充。4、關好出水管路的閘閥和出口壓力表及進口真空表。5、點動電機
真空技術中的清潔處理一般指的是真空裝置的結構材料、填裝材料和真空零部件的清潔處理。在各類真空工藝生產中，例如電真空工藝、真空鍍膜工藝、真空焊接工藝等，都十分重視真空衛(wèi)生問題。在電真空工藝中，要求裝配到
真空泵真空度低的原因：一、真空泵本身漏氣1、密封圈漏氣。應檢查所有密封部位的密封情況，更換破損的密封圈；2、氣鎮(zhèn)閥墊圈損壞，或未擰緊。應更換墊圈并擰緊氣鎮(zhèn)閥；3、排氣閥片損壞，密封不好，應更換氣閥片；
磁控濺射鍍膜是現代工業(yè)中不可缺少的技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防和國民經濟生產中的作用和地位日益強大。鍍膜工藝
在真空鍍膜設備真空裝置自動控制中，往往要進行真空測量，由于真空裝置種類繁多、工作壓力范圍也不盡相同，因此，從105Pa—10-5Pa各真空區(qū)域的真空測量塢會遇到。通常使用的真空計有電阻真
眾所同知,真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射,那么,蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別?不少新手朋友有這樣的疑問,下面小編為大家做出的相關講解。 真空蒸發(fā)膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻
常用物理氣相沉積技術（PVD）之蒸鍍、濺射、離子鍍，這三種技術都要在真空條件下才能得以實現。制備現代薄膜材料，不管是物理氣相沉積技術（PVD），還是化學氣相沉積技術（CVD），都要涉及真空條件下氣相產
燈絲控制極窗口靠近發(fā)射電子多，在同樣的電源電壓及束流下（束流為陽極截獲電流與坩堝中電流之和）蒸發(fā)速率就快，但易受離子攻擊，導致燈絲壽命縮短。燈絲與控制極（聚束極）國內、國外設備裝配尺寸可以相同，都是同
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